東証プライム市場

テクセンドフォトマスク(429A)

概況

最終更新日:2026/08/06 16:31
この章の文章はAIが開示資料をもとに生成しています。誤りを含む場合があるため、投資判断の際は開示一覧から原文もご確認ください。
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総括

2027年3月期1Qは売上34,518百万円(+14.8%)、営業益7,360百万円(+25.3%)。先端向け需要で収益性が改善。

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主力事業

EUVを含む先端フォトマスクの設計・製造を世界8拠点で展開。先端ノード向けと外販需要が収益の柱。

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業績

EBITDA率35.4%で営業増益。四半期純利は源泉税増でやや減少、通期予想は据え置き。

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注目点

成長投資を継続、シンガポール新工場や米韓で先端ライン増設。通期配当予想70円、フリーCFは改善傾向。

最新決算の要点

最終更新日:2026/08/06 16:31
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テクセンドフォトマスク株式会社

2027年3月期 第1四半期決算


決算の重要ポイント

  • 売上収益は前年同期比+14.8%増の345.18億円と堅調に成長
  • 営業利益は同+25.3%増の73.60億円、営業利益率は21.3%に改善
  • 税引前利益は増加したが、海外子会社からの配当に係る源泉徴収税増で純利益は前年同期比-3.2%の53.00億円に減少

決算数値概要

  • 売上高: 345.18億円 (前年比 +14.8%)
  • 営業利益(経常利益): 73.60億円 (前年比 +25.3%)
  • 純利益: 53.00億円 (前年比 -3.2%)

前回決算からの主なUPDATE

  • 第1四半期の売上・営業利益は通期見通しに対し概ねインライン(売上進捗率:通期想定に対し24.6%)で推移
  • 純利益が減少:税引前利益は増加したものの、海外子会社からの配当等に伴う源泉所得税の増加が純利益を押し下げ
  • 成長投資を継続:シンガポール新工場の設立や米国・韓国での先端ライン追加など設備投資を継続(第1四半期設備投資支出約74.55億円)

好材料(ポジティブ要因)

  • 先端ノード(≦28nm)向け売上比率が高く、先端品比率上昇による収益性改善が確認できる点(マージン拡大)
  • 営業キャッシュ・フローは+115.78億円と安定したキャッシュ創出力を維持し、成長投資の財源に余裕あり
  • グローバル生産ネットワーク(8拠点)とEUV対応技術の強みで外販フォトマスク需要増に対応可能

悪材料(ネガティブ要因)

  • 海外配当に伴う源泉税増の影響で純利益が減少し、税構造による利益変動リスクが顕在化
  • 引き続き大型顧客の取り込みで苦戦した事例があり、顧客構成の偏りや受注変動リスクが存在
  • 先端設備投資とライン拡張による固定費・投資負担が継続(高水準の設備投資が利益率・キャッシュに与える圧力)
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長期成長期待

最終更新日:2026/08/06 16:31
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1. 成長期待のポイント

外販フォトマスク市場の拡大(外販市場CAGR約8.7%)とAI/データセンターによる先端・メモリ需要増、設備投資(新工場・先端ライン)で、今後3年間は年率約8–10%の売上成長と高い利益率維持が期待される。

2. 成長ドライバー別の分析

外販フォトマスク市場の構造的拡大

  • 外販フォトマスク市場は中期で成長基調(CY24–30想定CAGR約8.7%)で需要基盤が拡大。
  • 内製から外注化が進むメモリや先端ロジックの増加が外販比率を押し上げる。
  • ノード微細化によりマスク枚数・工程増、ASP上昇が追い風。

先端対応設備拡充(EUV含むグローバル生産ネットワーク)

  • シンガポール新工場、米国・韓国での先端ライン追加、EUV量産対応で供給能力を増強。
  • 先端品比率上昇により粗利率・営業利益率の改善期待(既に四半期で先端比率35%超)。
  • 設備導入に伴う立ち上げ効果で中期的に高付加価値受注を獲得可能。

AI・データセンター/メモリ需要の追い風

  • 生成AI普及とデータセンター投資、HBMなど高帯域メモリの需給逼迫がマスク需要を押し上げる。
  • 特にメモリ向けの外注化が進み、既存顧客の受注拡大が見込まれる。
  • 高付加価値先端マスク中心の売上ミックス改善で利益率を下支え。

3. 今後3年の業績成長イメージ

会社の今期(FY2027)想定売上140,100百万円をベースに、外販市場CAGR約8.7%を踏まえ実行力が順調ならFY2028は約152–153十億円、FY2029は約166十億円前後(年率約9%前後)。EBITDAマージンは高水準(約34%前後)を維持、営業利益率は約21%台が想定されるが、初期の設備償却や配当・税負担で四半期ごとの変動はあり得る。

4. 課題・リスク

  • 設備投資の遅延や立ち上げ不全:シンガポール等の新拠点や先端ラインの稼働遅延は成長鈍化要因。
  • 需要サイクル・顧客集中:AIバブル後の投資縮小や主要顧客の発注変動は業績に直撃。
  • 為替・税務負担:円安恩恵の逆転(円高)や海外配当に伴う源泉税増加が純利益を下押し。
  • 技術競争・供給制約:EUV/High-NA移行の不確実性や部材供給不足が影響。

5. 総括

外販フォトマスク市場の構造的成長と同社の先端設備投資により、今後3年は年率約8–10%の売上成長と高い収益性維持が期待される。一方、設備実行力、顧客依存、為替・税負担の管理が投資判断の鍵。

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